用途性能 ：
本產(chǎn)品它是有稀土磨料、分散螯合劑和表面活性劑組成，不腐蝕污染設(shè)備，容易清洗；硅拋光速率快，平整性好，表面質(zhì)量好；使用不含金屬離子的鰲合劑，對有害金屬離子的鰲合作用增強；采用非離子型表面活性劑，能對磨料和反應(yīng)產(chǎn)物從襯底表面有效的吸脫作用，拋光后易于清洗；對環(huán)境無污染。
產(chǎn)品適用于半導體材料如硅片的表面粗/中拋光，其最大特點是在具有較高拋光去除速率(1.0μm/min)，拋光表面質(zhì)量好。拋光后晶片表面的品糙度在0.2nm以下。
技術(shù)指標
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項 目 |
指 標 |
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外 觀 |
微黃色透明液體 |
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固體含量 ％ ≥ |
25.0 |
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pH(1%水溶液) ≤ |
2.5 |
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密度(20℃)g/cm3 ≥ |
1.15 |
使用方法：
將硅片拋光濃縮液加去離子水稀釋到20倍后使用。
包裝：
本品為25kg或200kg塑料桶包裝，在陰涼通風處貯存，有效期一年。
貯存：
1.儲存于避光、通風處。
2.儲存溫度3-35°
